2CU型或2DU型硅光電二極管在性能上都有以下二個(gè)特點(diǎn)，我們?cè)谑褂弥袘?yīng)予以注意。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司。?？缭秸系K，世華高硅光電二極管帶你體驗(yàn)智能家電。東莞進(jìn)口硅光電二極管陣列

硅光二極管在光探測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用非常廣。它可以用于檢測(cè)微弱的光信號(hào)，如生物發(fā)光、化學(xué)發(fā)光等，為科學(xué)研究和技術(shù)應(yīng)用提供了重要的手段。同時(shí)，硅光二極管還可以用于構(gòu)建光傳感器，實(shí)現(xiàn)對(duì)環(huán)境參數(shù)的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)分析。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大和產(chǎn)品種類的豐富，公司的銷售業(yè)績(jī)穩(wěn)步提升。徐州進(jìn)口硅光電二極管特性硅光電二極管誰(shuí)做的好，世華高！

深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。硅光電二極管是當(dāng)前普遍應(yīng)用的半導(dǎo)體光電二極管。下面我們談?wù)?CU和2DU兩種類型硅光電二極管的種類、構(gòu)造以及應(yīng)用上的一些問(wèn)題。種類與構(gòu)造一、2CU型硅光電二極管：2CU型硅光電二極管是用N型硅單晶制作的，根據(jù)外形尺寸的大小它又可分2CU-1-，2CU-2-，2CU-3-等型號(hào)，其中2CU-1-與2CU-2-體積較大，2CU-3-稍小些（見(jiàn)圖1（a））。這種類型的光電二極管多用帶透鏡窗口的金屬管殼封裝，下端有正、負(fù)兩個(gè)電極引線，它們分別與管心中的光敏面（P型層）和N型襯底相連。光線從窗入后經(jīng)透鏡聚焦在管心上，由于這種聚光作用增強(qiáng)了光照強(qiáng)度，從而可以產(chǎn)生較大的光電流。

硅光二極管的光譜響應(yīng)范圍與其材料特性和結(jié)構(gòu)有關(guān)。一般來(lái)說(shuō)，硅光二極管對(duì)可見(jiàn)光和近紅外光具有較好的響應(yīng)，但對(duì)紫外光和遠(yuǎn)紅外光的響應(yīng)則較弱。因此，在選擇硅光二極管時(shí)，需要根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景的光譜特性進(jìn)行匹配，以獲得好的光電轉(zhuǎn)換效果。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大和產(chǎn)品種類的豐富，公司的銷售業(yè)績(jī)穩(wěn)步提升。低功耗硅光電二極管就找世華高。

本發(fā)明具有以下有益的技術(shù)效果：本發(fā)明提供的高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管，通過(guò)適當(dāng)減小耗盡區(qū)寬度和減小擴(kuò)散區(qū)電阻率，耗盡區(qū)寬度減小導(dǎo)致響應(yīng)度的降低，本發(fā)明通過(guò)增加高反層使得光子在耗盡區(qū)中二次吸收來(lái)補(bǔ)償；高反層的形成使得器件保持對(duì)長(zhǎng)波響應(yīng)度的同時(shí)，降低響應(yīng)時(shí)間；由于擴(kuò)散區(qū)(耗盡區(qū)以外的區(qū)域)材料電阻率很低，擴(kuò)散區(qū)阻抗很小，因此擴(kuò)散時(shí)間很短；從而實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。本發(fā)明提供的高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管，由于通過(guò)低阻材料降低了擴(kuò)散區(qū)電阻，縮短了擴(kuò)散時(shí)間；而高反層的設(shè)置提高了長(zhǎng)波的吸收效率，降低了耗盡區(qū)的物理厚度，縮短了漂移時(shí)間，并且在其上開(kāi)孔減小了擴(kuò)散區(qū)的阻抗；襯底采用低電阻率材料，背面不用進(jìn)行減薄注入，直接背面金屬化形成背面電極，避免了加工過(guò)程中碎片的情況。附圖說(shuō)明圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖示意圖；圖2為本發(fā)明的等效電路示意圖；圖3為本發(fā)明的高反層原理示意圖；圖4為多孔結(jié)構(gòu)高反層的示意圖；圖5-1～圖5-7分別為本發(fā)明的逐層制備示意圖。圖6為本發(fā)明的硅基光電二極管的響應(yīng)度測(cè)試曲線；圖7為本發(fā)明的硅基光電二極管的頻率特性測(cè)試曲線。世華高硅光電二極管性能穩(wěn)定，技術(shù)成熟。徐州進(jìn)口硅光電二極管特性

專注硅光電二極管，智能硬件解決方案-世華高。東莞進(jìn)口硅光電二極管陣列

以p型離子注入形成有源區(qū)；所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層，所述的氮化硅層為淀積生長(zhǎng)的si3n4層；所述的正面金屬電極是在濺射后經(jīng)刻蝕成形。所述外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層厚度wepi根據(jù)耗盡區(qū)寬度wd確定：wepi≈wd，而wd≥w入/2，其中w入＝f(λ)，w入為入射光入射深度，λ為入射光波長(zhǎng)。一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管的制備方法，包括以下操作：1)在襯底上濺射生成高反層；2)高反層開(kāi)設(shè)刻蝕孔；3)高反層上通過(guò)淀積的方法生長(zhǎng)外延層；4)在外延層上通過(guò)離子注入分別形成保護(hù)環(huán)和有源區(qū)；5)在保護(hù)環(huán)和有源區(qū)上生成sio2層，然后在sio2層上方生成si3n4層；6)在sio2層、si3n4層上刻出接觸孔，然后濺射金屬，濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極；7)在襯底的背面做金屬化處理形成背面電極。所述的襯底采用電阻率20～100為ohm·cm的低電阻率硅材料；襯底直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸；所述的高反層是由折射率～～，通過(guò)化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜技術(shù)生成；所述的外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層的厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng)；所述的保護(hù)環(huán)為as離子源注入，注入劑量為1e15～2e15。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳。東莞進(jìn)口硅光電二極管陣列